1、機(jī)臺采用進(jìn)口勞士領(lǐng)板材，長期可工作在酸腐蝕環(huán)境，堅固耐用，雙層防漏 。
2、采用 HF+HNO3/H3P04+HNO3等工藝對硅片表面腐蝕清洗的工藝設(shè)備，可清洗4“，5”，6“硅片。
3、可設(shè)計手動全自動運行設(shè)計，全自動運行方式采用兩只獨立機(jī)械臂運行，可上下提動。
4、清洗能力：4~6寸圓片，25片2籃/批
5、各工藝槽溫度可控，獨立控制。
6、各工藝槽模組化設(shè)計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統(tǒng)一的承漏底盤中。腐蝕槽設(shè)計底部排風(fēng)，降低排風(fēng)量。
7、工藝槽可設(shè)計提動動作，清洗更快更徹底。
8、控制部分采用進(jìn)口品牌PLC 和HM ；
9、機(jī)臺前部配備有PTFE純水槍和PTFE氮氣槍各1只置于右側(cè)。
10、設(shè)備設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)按半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)（SEMI-S2-93）執(zhí)行，ISO9001質(zhì)量管理體系進(jìn)行規(guī)范和保證。
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